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如何使用IT2800源表測(cè)量半導(dǎo)體材料表面電阻率
來(lái)源: | 作者:泰勤科技 | 發(fā)布時(shí)間: 2023-12-18 | 1687 次瀏覽 | 分享到:

如何使用 IT2800 源表測(cè)量半導(dǎo)體材料表面電阻率

  電子器件的許多重要參數(shù)與電阻率及其分布的均勻性有密切的關(guān)系,例如二極管的反向飽和電流,晶 體管的飽和壓降和放大倍數(shù) β 等,都直接與硅單晶的電阻率有關(guān)。因此器件的電阻率測(cè)試已經(jīng)成為芯片加 工中的重要工序,對(duì)其均勻性的控制和準(zhǔn)確的測(cè)量直接關(guān)系將來(lái)能否制造出性能更優(yōu)功率器件。 

  不同于使用萬(wàn)用表測(cè)量常規(guī)導(dǎo)體電阻,半導(dǎo)體硅單晶電阻率以及微電子領(lǐng)域的其他金屬薄膜電阻率的 測(cè)量屬于微區(qū)薄層電阻測(cè)試,需要利用微小信號(hào)供電以及高精密的量測(cè)設(shè)備,包括測(cè)試接線方式上,也需 要利用四線制的接法來(lái)提升測(cè)量結(jié)果的準(zhǔn)確性,行業(yè)內(nèi)稱(chēng)為四探針測(cè)試法。

  什么是四探針測(cè)試法?

  四探針技術(shù)可測(cè)試對(duì)象主要有:晶圓片和薄層電阻,例如硅襯底片、研磨片、外延片,離子注入片、 退火硅片、金屬膜和涂層等。利用探針?lè)治隹蓹z測(cè)整個(gè)芯片表面薄層電阻均勻性,進(jìn)而判斷離子注入片和 注入工藝中存在的問(wèn)題。

  四探針?lè)ò礈y(cè)量形狀可分為直線四探針?lè)ê头叫嗡奶结樂(lè)ā?/span>

  1)直線四探針?lè)?/strong>

  直線四探針測(cè)試法的原理是用針距為 1mm 的四根探針同時(shí)壓在樣品的平整表面上,利用恒流源給外面的兩個(gè)探針通以微小電流,然后在中間兩個(gè)探針上用高精密數(shù)字萬(wàn)用表測(cè)量電壓,最后根據(jù)理論公式計(jì)算出樣品的電阻率,電阻率計(jì)算公式: ,S 代表探針間距。

  直線四探針?lè)軠y(cè)出超過(guò)其探針間距三倍以上大小區(qū)域的不均勻性。

  測(cè)試設(shè)備:不同探針間距探針臺(tái)+IT2806 高精密源表+上位機(jī)軟件 PV2800

  IT2806 高精密源表(簡(jiǎn)稱(chēng) SMU):集六種設(shè)備功能于一體(恒流源、恒壓源、脈沖發(fā)生器、6.5 位 DVM、 電池模擬器,電子負(fù)載)。在電阻率的測(cè)試中,可將 IT2806 高精密源表切換至恒流源模式,在輸出電流同時(shí)量測(cè)中間兩探針之間的微小壓降,并搭配免費(fèi)的 PV2800 上位機(jī)軟件,自動(dòng)得出電阻率的測(cè)量結(jié)果。

  利用 IT2800 系列高精密源表測(cè)量電阻率的優(yōu)勢(shì):

  測(cè)試便捷:ITECH IT2800 系列高精密源/測(cè)量單元標(biāo)配免費(fèi)的上位機(jī) PV2800 軟件,并可選配不同直 線探針間距的探針臺(tái),利用軟件內(nèi)置的公式,即可直接得出電阻率的測(cè)試結(jié)果。

  

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